上海新微技术研发中心有限公司  

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上海微技术工业研究院的8英寸硅光专用工艺平台建有1500平方米的超净间，拥有业界先进的光刻、刻蚀、CMP等工艺设备，已开发低损耗波导工艺、高质量锗外延工艺、高平整性CMP工艺等，具备基于220nm SOI、3um SOI、氮化硅等材料开发硅基光电子集成工艺的能力，可实现波导、定向耦合器、多模干涉器、热调等硅基光电子器件以及基于这些器件的硅光集成功能芯片。 [详细介绍]