当今社会是信息化社会，光电探测技术是现代信息获取的主要手段之一，是支撑信息化社会发展的核心技术。随着光电探测和成像技术的迅猛发展，其在军事和民用领域占有越来越重要的地位，引起了业内人士的普遍关注。

中国光学工程学会定于2020年8月底在厦门市举办“光电探测与成像技术及应用研讨会”。本届大会设有10余个议题方向，规模近300人。组委会力邀30余位国内著名科学家、学术领军专家出席并做精彩报告。会议将深入探讨近年来光电探测与成像技术领域所取得的最新研究成果，促进光电探测与成像技术及相关产业的可持续、健康发展。

        大会征文已开通，欢迎广大科研人员、研究生、博士生积极投稿参与会议交流！通过评审的稿件将在SPIE文集（EI检索）正式发表，优秀稿件将推荐到SCI期刊和EI期刊发表。本届大会组委会将评选优秀青年论文奖，获奖作者颁发荣誉证书和奖励。

 

会议文集：
SPIE会议论文集（EI收录）

8月25日下午两点，会议报到
8月26日上午，大会开幕式和大会主旨报告
8月26日下午-27日下午，分会特邀报告、口头报告、海报交流

口头报告交流：
已接到组委会通知的作者，请准备好PPT文件，到会场后拷贝给组委会。
口头报告为中文交流，时间10分钟，包括提问。

海报交流：
请各位作者自行打印好海报，在会场指定位置粘贴，海报尺寸要求80cm*80cm，彩色打印。
海报模板：
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